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直流磁控濺射法制備TiO2自清潔薄膜
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  • 直流磁控濺射法制備TiO2自清潔薄膜目錄
    摘 要 I
    Abstract II
    1.1前言 2
    1.2 二氧化鈦的初步認識 2
    1.2.1 二氧化鈦薄膜的晶體結(jié)構(gòu)及性質(zhì) 2
    1.2.2二氧化鈦光催化原理 4
    1.2.3二氧化鈦薄膜的應(yīng)用 5
    1.3二氧化鈦的制備與表征 6
    1.3.1二氧化鈦的制備方法 6
    1.3.2二氧化鈦薄膜的表征 8
    1.4本文研究的主要內(nèi)容 11
    2 主要實驗設(shè)備及材料制備 12
    2.1實驗設(shè)備 12
    2.2二氧化鈦薄膜的制備 14
    2.2.1基片清洗 14
    2.2.2磁控濺射過程 14
    3.1不同濺射功率的影響 16
    3.1.1實驗數(shù)據(jù) 16
    3.1.2結(jié)果與討論 16
    3.2不同濺射時間的影響 18
    3.2.1實驗數(shù)據(jù) 18
    3.2.2結(jié)果與討論 18
    3.3不同濺射壓強的影響 20
    3.3.1實驗數(shù)據(jù) 20
    3.3.2結(jié)果與討論 20
    3.4 不同O2/Ar流量比的影響 22
    3.4.1實驗數(shù)據(jù) 22
    3.4.2結(jié)果與討論 22
    3.5 不同離線退火溫度的影響 24
    3.5.1實驗數(shù)據(jù) 24
    3.5.2結(jié)果與討論 25
    3.6小結(jié) 26
    4 二氧化鈦薄膜光催化性能研究 28
    4.1薄膜親水性能研究 28
    4.2 薄膜光催化降解有機物性能 29
    4.2.1實驗操作步驟 29
    4.2.2實驗結(jié)果與討論 29
    5 結(jié)論與展望 32
    ...
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