離子束輔助沉積鍍膜
- 文件介紹：
- 該文件為 ppt 格式，下載需要 1 積分
-
- 離子束輔助鍍膜相關資料
姓名：劉翔翔
學號：20100760
學院：機械與汽車工程學院
班級：真空一班
用離子束輔助沉積技術制備ZnS/MgF2膜①
鍍膜機采用北京儀器廠生產的ZZSX-
1200真空鍍膜機。鍍膜室尺寸(寬×深×
高):1200×958×1250(mm3)。蒸發源有電
阻式和電子槍兩種。夾具為球面行星、公自
轉結構,數量為3片,每片可放置Φ50mm冷
光杯192個,即每次可鍍覆576個Φ50mm
冷光杯。烘烤采用管狀加熱器輻射加熱方
式。
離子源為自行設計制造,外徑160mm。
輸入電壓220V,50Hz,±10%。陰極燈絲用
Φ0.5mm鎢絲制成,長度120mm,工作電流
16~20A。放電壓一般為50V,電流2~3A,即放電功率一般控制在100~150W。本離子源
不用加速極與柵極,結構較為簡單,容易進行維修。
膜厚監控采用石英晶體振蕩儀。監測厚度(深度)范圍0.1nm~999.9μm,自動換擋,分
辨率0.1nm。監測速率范圍0.1~99.99nm,分辨率0.1nm。預置終點厚度0.1nm~999.
9μm。輸入電壓:220V,50Hz,功率小于40W。
離子...
熱門關鍵詞： 
